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9701積體電路製程_電子三A
上課期間:從 2008-09-17 到 無限期
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課程介紹

課程安排

1
 課本&教材
1
  • 半導體工業簡介
  • 半導體材料特性
  • 元件技術
  • 矽與晶圓準備
  • 半導體製造之化學特性
  • 半導體製造廠之污染控制
  • 量測與缺陷
  • 製程反應室之氣體控制
  • IC製造概述
  • 氧化
  • 沉積
  • 金屬化
  • 微影:氣相塗底至軟烤
  • 微影:對準與曝光
  • 微影:光阻顯影與先進雕像
  • 蝕刻
  • 離子植入
  • 化學機械平坦化
  • 晶圓測試
  • 裝配與封裝
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教師 / 電子系辦公室電子系
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教師 / 工學院
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